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臺積電保持觀望 ASML最新EUV機臺只賣了5臺

  • 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續(xù)制程中導入。路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強表示，即便不使用High-N
  • 關鍵字： 臺積電  ASML  EUV  機臺  

臺積電仍在評估ASML的“High-NA”，因為英特爾未來會使用

  • 全球最大的合同芯片制造商臺積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評估何時將 ASML 的尖端高數(shù)值孔徑 （NA） 機器用于其未來的工藝節(jié)點，一位高管周二表示。芯片制造商正在權衡這些價值近 4 億美元的機器的速度和精度優(yōu)勢何時會超過芯片制造廠中最昂貴的設備幾乎翻倍的價格標簽。當被問及臺積電是否計劃將這臺機器用于其即將推出的 A14 和未來節(jié)點的增強版本時，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由?！癆14，我所說的增強，在不使用 High-NA 的情況下非?？捎^。因此，我們的技術團
  • 關鍵字： 臺積電  ASML  “High-NA”  

光罩圖形化：電子束光刻發(fā)展之路

  • ASML 的光學投影光刻機的熱度經(jīng)久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機和國產(chǎn)光刻機概念引發(fā)的關注，各種行業(yè)研報層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規(guī)的科研方向的應用外，小規(guī)模試產(chǎn)，量子芯片也是電子束光刻機的主要應用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長。當電子束的能量為 100keV 時
  • 關鍵字： ?ASML  

ASML計劃在荷蘭大規(guī)模擴張，助力EUV設備交付

  • 據(jù)荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關注。據(jù)Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發(fā)與應用。Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)的擴張計劃大約在一年前首次公開。據(jù)荷蘭消
  • 關鍵字： EUV  光刻機  ASML  

ASM宣布將啟動美國本土生產(chǎn)以應對關稅壓力

  • 據(jù)媒體報道，荷蘭半導體設備制造商ASM International（簡稱“ASM”）在2025年第一季度財報電話會議上宣布，將立即啟動在美國本土的生產(chǎn)計劃，以應對美國近期實施的關稅政策。今年4月初，美國總統(tǒng)特朗普簽署了一項“對等關稅”行政令，宣布對包括荷蘭在內的歐盟成員國加征25%的鋼鐵、鋁和汽車進口關稅，其他商品則面臨20%的關稅。這一政策覆蓋了歐盟對美出口的約70%，總價值高達5320億歐元。此外，特朗普還計劃對暫時豁免的藥品、半導體等產(chǎn)品單獨加征關稅。為避免關稅影響，ASM首席財務官Paul Ver
  • 關鍵字： ASML  EUV  芯片工具  

地都賣了，三星電子與ASML半導體研發(fā)合作還能繼續(xù)嗎？

  • 三星電子和ASML曾于2023年12月宣布共同投資7億歐元（約1萬億韓元），在大都市地區(qū)建立極紫外（EUV）研究中心，致力于打造面向未來的半導體制造設備以保持三星在先進工藝制程技術的領先性。針對這次合作，ASML特別與韓國土地住宅公社（LH）簽訂了在京畿道華城購買6個地塊（約 19,000 平方米）的合同以建設研發(fā)中心。不過最近這項計劃可能出現(xiàn)了一些變動， ASML最近出售了其中的兩塊地塊，并且正在處理另外兩塊地塊。盡管還剩下兩個地塊，但ASML似乎沒有計劃在剩余的空間里與三星建立研發(fā)中心。 ASML 是
  • 關鍵字： 三星電子  ASML  EUV  

ASML發(fā)布2025年第一季度財報

  • 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第一季度財報。2025年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤達24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對2025年展望保持不變，預計全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元為單位）2024年第四季度2025年第一季度凈銷售額9,2637,742其中裝
  • 關鍵字： ASML  2025年第一季度財報  

半導體危險警訊？ ASML訂單慘崩近半

  • 荷蘭半導體設備龍頭阿斯麥（ASML）今（16）日公布出第一季財報，顯示訂單金額大幅縮水至39.4億歐元，較上季銳減44.5%，凸顯半導體產(chǎn)業(yè)需求放緩的隱憂，也讓市場關注明（17）日臺積電的法說會。CNBC報導，ASML第一季凈銷售額為77.4億歐元，凈利達23.6億歐元，訂單金額為39.4億歐元，低于市場預期的48.2億歐元，較前季大幅衰退44.5%，其中極紫外光微影（EUV）機臺訂單金額為12億歐元。盡管訂單金額大減，但ASML執(zhí)行長傅凱（Christophe Fouquet）表示，需求前景依然強勁，A
  • 關鍵字： 半導體  ASML  

前英特爾CEO加入光刻技術初創(chuàng)公司

  • 近日，英特爾前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，擔任董事會執(zhí)行董事長，xLight官網(wǎng)上個月也公布了這一消息。xLight是一家面向極紫外（EUV）光刻機開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術的EUV光源系統(tǒng)的初創(chuàng)公司。xLight雖然規(guī)模很小，但其團隊在光刻和加速器技術領域擁有多年的經(jīng)驗，不僅擁有來自斯坦福直線加速器和其他地方的粒子加速器資深研究人士，其首席科學家Gennady Stupakov博士還是2024年IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學
  • 關鍵字： 英特爾  EUV  ASML  xLight  LPP  FEL  光刻  

俄羅斯被指竊取ASML、臺積電機密！才有了自己的28nm工藝

  • 快科技4月3日消息，據(jù)NRC報道，一名43歲的俄羅斯工程師German A.，被指控從ASML阿斯麥、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC臺積電竊取機密技術信息，從而幫助俄羅斯建立了自己的28nm晶圓廠。根據(jù)指控，他偷竊了ASML 105份內部文件、臺積電88份內部文件，涉及半導體生產(chǎn)、各種芯片制造設備的信息。文件中并沒有設計和建造晶圓廠的完整藍圖，后者更高級的技術，但仍被視為機密，足以支撐建立完整的28nm級工藝生產(chǎn)線，軍用等領域足夠了。調查稱，German A.通過網(wǎng)盤、社交應用
  • 關鍵字： 俄羅斯  ASML  光刻機  

ASML計劃在日本擴增五倍EUV芯片工具員工

  • 近日，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，計劃在日本將其先進的極紫外光（EUV）芯片工具的員工人數(shù)擴增五倍，這一舉措旨在加強其在全球半導體市場的競爭力。隨著全球對高性能芯片需求的激增，ASML的這一決策不僅能提升其在日本的業(yè)務運營，也將進一步推動當?shù)匕雽w產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。ASML在全球的影響力不斷增強，特別是在EUV技術方面，該技術被認為是制造下一代高性能芯片的關鍵。隨著日本在半導體制造領域的持續(xù)投入，ASML的擴張計劃將有助于促進當?shù)厝瞬诺呐囵B(yǎng)及技術的進步。此外，ASML的擴展計劃正值日本其他半導體公司如Ra
  • 關鍵字： ASML  EUV  芯片工具  

ASML、imec簽署五年期戰(zhàn)略合作協(xié)議

  • 自ASML官網(wǎng)獲悉，當?shù)貢r間3月11日，ASML宣布同比利時微電子研究中心（imec）簽署新的戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議，重點關注半導體研究與可持續(xù)創(chuàng)新。據(jù)悉，該協(xié)議為期五年，旨在開發(fā)推動半導體行業(yè)發(fā)展的解決方案，并制定以可持續(xù)創(chuàng)新為重點的計劃。此次合作涵蓋了阿斯麥的全部產(chǎn)品組合，這些設備將導入由imec牽頭建設的后2nm制程前沿節(jié)點SoC中試線NanoIC，研發(fā)的重點領域還將包括硅光子學、存儲器和先進封裝，為未來基于半導體的人工智能應用在不同市場提供全棧創(chuàng)新。
  • 關鍵字： ASML  IMEC  芯片制程  2nm  

最新全球半導體設備廠商排名Top10

  • 根據(jù)CINNOResearch最新發(fā)布的全球半導體設備行業(yè)研究報告顯示，2024年全球半導體設備商半導體營收業(yè)務Top10營收合計超1100億美元，同比增長約10%。2024年全球半導體設備廠商市場規(guī)模Top10與2023年的Top10設備商相同，榜單前五名連續(xù)兩年保持穩(wěn)定：荷蘭公司ASML全年營收超300億美元，排名首位；美國公司應用材料（AMAT）2024年營收約250億美元，排名第二；美國公司泛林（LAM）、日本公司Tokyo Electron（TEL）、美國公司科磊（KLA）分別排名第三、第四和第
  • 關鍵字： 半導體設備  ASML  應用材料  北方華創(chuàng)  中微公司  泛林  

為中國光刻機提供服務！ASML：對北京本地維修中心升級和擴建

  • 3月7日消息，ASML公開表示，會繼續(xù)在中國市場提供維修服務。之前ASML表示在北京新建維修中心，而他們也是調整了這個說法?！拔覀儾皇且?025年新建一個北京本地維修中心，而是今年會在原有基礎上進行升級、擴建?！敝霸邢⒎Q，在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于去年年底到期后，現(xiàn)在的荷蘭首相很可能不再為其續(xù)期，而相關決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是，ASML的銷售額中，約有一半來自中國（最新的財報顯示，中國大陸2024年為ASML貢獻了101.95億歐元收入，約合人民幣797.7
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML：3D整合將成為2D收縮日益重要的補充技術

  • 據(jù)媒體報道，3月5日，ASML發(fā)布2024年度報告，首席執(zhí)行官克里斯托弗·福凱（Christophe Fouquet）表示，如果展望ASML的未來增長，光刻技術無疑仍然是摩爾定律的主要驅動力之一，相信這一點在未來許多年里依然成立。與此同時，二維收縮（2D shrink）正變得越來越困難。這并不完全是由于光刻技術的局限性，而是因為我們幾乎達到了邏輯和存儲器客戶所使用的晶體管的極限。為了繼續(xù)在二維收縮方面取得進展，需要在架構和器件上進行創(chuàng)新。這意味著需要進行三維前道整合（3D front-end integr
  • 關鍵字： ASML  2D shrink  光刻技術  三維整合  
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